隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入 28 納米、14 納米等更等級(jí),工藝流程的延長且越趨復(fù)雜,產(chǎn)線成品率也會(huì)隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個(gè)原因就是制程對(duì)雜質(zhì)的敏感度更高,小尺寸污染物的清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟。每個(gè)晶片在整個(gè)制造過程中需要甚至超過 200 道清洗步驟,晶圓清洗變得更加復(fù)雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。
半導(dǎo)體是許多工業(yè)整機(jī)設(shè)備的,半導(dǎo)體氧化設(shè)備公司,普遍應(yīng)用于計(jì)算機(jī)、消費(fèi)類電子、網(wǎng)絡(luò)通信、汽車電子等領(lǐng)域,半導(dǎo)體主要由四個(gè)部分組成:集成電路、光電器件、分立器件和傳感器,其中集成電路在總銷售額占比高達(dá)80%以上,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的領(lǐng)域。半導(dǎo)體清洗用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測試每個(gè)步驟中可能存在的雜質(zhì),避免雜質(zhì)影響芯片良率和芯片產(chǎn)品性能目前,隨著芯片制造程度的持續(xù)提升,對(duì)晶圓表面污染物的控制要求不斷提高,每一步光刻、刻蝕、沉積等重復(fù)性工序后,都需要一步清洗工序。
一種半導(dǎo)體氧化設(shè)備,半導(dǎo)體氧化設(shè)備價(jià)格,其配有:由室壁界定的可密封氧化室;設(shè)置于氧化室內(nèi),并用來支撐半導(dǎo)體樣品的基座;用于向所述氧化室供應(yīng)對(duì)所述
半導(dǎo)體樣品的特定部分進(jìn)行氧化的水蒸汽的供應(yīng)部分;監(jiān)測窗,北京半導(dǎo)體氧化設(shè)備,其設(shè)置于所述氧化室的室壁之一內(nèi),并且設(shè)置于能夠面對(duì)支撐于所述基座上的所述半導(dǎo)體樣品的位置處;監(jiān)測部分,其設(shè)置于所述氧化室之外,并且能夠經(jīng)由所述監(jiān)測窗面對(duì)支撐于所述基座上的半導(dǎo)體樣品;以及調(diào)整所述基座和所述監(jiān)測部分之間的距離的調(diào)整部分。
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