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頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司
主營(yíng)：微流控芯片定制，微流控芯片加工設(shè)備，微流控儀器，表面修飾
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| 先生： |
勻膠機(jī)
調(diào)速范圍和時(shí)間：I檔：50~10000轉(zhuǎn)/分，時(shí)間0~999s
II檔：50~10000轉(zhuǎn)/分，時(shí)間0~999s適用：直徑5~100mm硅片及其他材料勻膠轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性：±1％膠的均勻性：±2％電極功率：40W，單相110~240V真空泵抽氣速率：＞60L/min
頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè)，SU8模具加工設(shè)備，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案。
SU8模具制備流程
1.備片
從化學(xué)品存放區(qū)取出清潔的硅片（確保硅片表面無塵）。
2.勻膠
1）打開勻膠機(jī)，將硅片放置在勻膠機(jī)托盤上，打開真空開關(guān)，確保硅片固定在托盤上不動(dòng)；
2）將SU8光刻膠滴在硅片中間，根據(jù)光刻膠的厚度和制備要求設(shè)置勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速和時(shí)間。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um，光刻膠型號(hào)：SU8-2075，1段500轉(zhuǎn)8s，2段1800轉(zhuǎn)30s）
3.前烘
1）將涂布好SU8光刻膠的硅片放置在熱板上，進(jìn)行預(yù)熱烘烤，去除光刻膠中的揮發(fā)性有機(jī)溶ji，時(shí)間和溫度根據(jù)光刻膠厚度進(jìn)行調(diào)整。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um ，設(shè)置溫度65℃，烘烤15min，然后溫度95度，SU8模具加工設(shè)備公司，烘烤15分鐘）
4.曝光
1）將預(yù)熱后的硅片放置在桌面光刻機(jī)托盤上。
2）使用相應(yīng)的掩模（掩膜）放置在硅片上進(jìn)行曝光，曝光時(shí)間和強(qiáng)度根據(jù)SU-8光刻膠的類型和厚度進(jìn)行調(diào)整。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um，設(shè)置曝光能量25mw/cm2，時(shí)間12s）
微流控芯片加工設(shè)備： 提供豐富多樣的微流控芯片加工設(shè)備，SU8模具加工設(shè)備，涵蓋SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工?？梢詭椭蛻粼谧约旱膶?shí)驗(yàn)室內(nèi)進(jìn)行微流控芯片的快速制作，從而提高實(shí)驗(yàn)效率和靈活性。
SU8模具制備流程
1.后烘
將曝光后的硅片放置在熱板上，進(jìn)行后曝光烘烤，以確保光刻膠的交聯(lián)反應(yīng)完成。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um，設(shè)置溫度65℃，烘烤7min，然后溫度95℃，烘烤3min）
2.顯影
將硅片放入顯影劑中，使未曝光部分的光刻膠溶解，形成模具的圖案。（顯影時(shí)間根據(jù)光刻膠厚度和顯影劑濃度進(jìn)行調(diào)整，此處顯影時(shí)間20min）
3.清洗
將顯影后的硅片用異丙chun溶劑進(jìn)行清洗，去除多余的光刻膠。
4.檢查
使用顯微鏡檢查制備的SU-8模具，測(cè)試觀察制備的微結(jié)構(gòu)尺寸，確認(rèn)圖案的清晰度和質(zhì)量。
頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案
頂旭微控技術(shù)有限公司-SU8模具加工設(shè)備由頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司提供。頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司實(shí)力不俗，信譽(yù)可靠，在江蘇 蘇州 的生物制品等行業(yè)積累了大批忠誠(chéng)的客戶。頂旭帶著精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念和您攜手步入輝煌，共創(chuàng)美好未來！溫馨提示：以上是關(guān)于頂旭微控技術(shù)有限公司-SU8模具加工設(shè)備的詳細(xì)介紹，產(chǎn)品由頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司為您提供，如果您對(duì)頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應(yīng)商或者讓供應(yīng)商主動(dòng)聯(lián)系您 ，您也可以查看更多與生物制品相關(guān)的產(chǎn)品！
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第2年
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