半導(dǎo)體清洗設(shè)備公司提供濕法設(shè)備,包含濕法槽式清洗設(shè)備及濕法單片式清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于集成電路、微機(jī)電系統(tǒng)、平板顯示等領(lǐng)域。隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)的發(fā)展,合肥半導(dǎo)體清洗設(shè)備,工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入 28 納米、14 納米等更等級(jí),隨著工藝流程的延長且越趨復(fù)雜,每個(gè)晶片在整個(gè)制造過程中需要甚至超過 200 道清洗步驟,半導(dǎo)體設(shè)備,晶圓清洗變得更加復(fù)雜、重要及富有挑戰(zhàn)性;清洗設(shè)備及工藝也必須推陳出新,使用新的物理和化學(xué)原理,在滿足使用者的工藝需求條件下,半導(dǎo)體清洗設(shè)備哪家好,兼顧降低晶圓清洗成本和環(huán)境保護(hù)。
在濕法清洗工藝路線下,目前主流的清洗設(shè)備主要包括單片清洗設(shè)備、槽式清洗設(shè)備、組合式清洗設(shè)備和批式旋轉(zhuǎn)噴淋清洗設(shè)備等,其中單片清洗設(shè)備市場份額占比高。濕法清洗工藝路線下主流的清洗設(shè)備存在程度的區(qū)分,主要體現(xiàn)在可清洗顆粒大小、金屬污染、腐蝕均一性以及干燥技術(shù)等標(biāo)準(zhǔn)。目前至純科技主要生產(chǎn)濕法清洗設(shè)備,提供槽式設(shè)備(槽數(shù)量按需配置)及單片機(jī)設(shè)備(8-12 反應(yīng)腔),均可以覆蓋 8-12 寸晶圓制造的濕法工藝設(shè)備。
泛半導(dǎo)體工藝伴隨許多種特殊制程,會(huì)使用到大量超高純(ppt 級(jí)別)的干濕化學(xué)品,這是完成工藝成果的重要介質(zhì),其特點(diǎn)是昂貴并伴隨排放。在集成電路領(lǐng)域,高純工藝系統(tǒng)主要包括高純特氣系統(tǒng)、大宗氣體系統(tǒng)、高純化學(xué)品系統(tǒng)、研磨液供應(yīng)及回收系統(tǒng)、前驅(qū)體工藝介質(zhì)系統(tǒng)等。其中,各類高純氣體系統(tǒng)主要服務(wù)于幾大干法工藝設(shè)備,各類高純化學(xué)品主要服務(wù)于濕法工藝設(shè)備。
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