頂旭桌面微型光刻機，專為微米級圖案制作而設(shè)計，旨在保障卓yue的圖形轉(zhuǎn)移精度。設(shè)備采用紫外LED冷光源，結(jié)合雙非球面石英透鏡，可生成半角＜2°的平行光，相較傳統(tǒng)接觸式曝光機，其極zhi緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精zhun。

頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè)，SU8光刻機公司，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案

曝光操作步驟

1、安裝硅片：將待曝光硅片平放在設(shè)備的載臺上，SU8光刻機怎么樣，確保位置準(zhǔn)確。

2、放置光刻板：將光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平穩(wěn)。

3、設(shè)定曝光參數(shù)：使用控制面板設(shè)置曝光時間和強度，根據(jù)具體需求進行調(diào)整。

4、啟動曝光：確認(rèn)參數(shù)設(shè)定無誤后，點擊啟動按鈕，設(shè)備將開始進行曝光。

5、監(jiān)控曝光過程：在曝光過程中，您可以通過設(shè)備界面監(jiān)控曝光進度，確保一切順利進行。

6、曝光完成：曝光結(jié)束后，SU8光刻機設(shè)計，設(shè)備會發(fā)出提示，取出硅片和光刻板。

使用方法該設(shè)備操作簡單，無錫SU8光刻機，易于上手，具體操作如下：

一、曝光前準(zhǔn)備工作

1、硅片處理：確保待曝光硅片經(jīng)過勻膠處理，表面干凈平整，沒有明顯的污漬或破損。

2、選擇光刻板：根據(jù)項目需要，選擇合適尺寸的光刻板，本設(shè)備兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、設(shè)備檢查：仔細(xì)檢查設(shè)備，確保所有部件處于正常工作狀態(tài)，確保操作環(huán)境良好。

頂旭（蘇州）微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領(lǐng)域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設(shè)備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案。