根據(jù)清洗介質(zhì)的不同,太陽能光伏硅片清洗設備選擇,目前半導體清洗技術(shù)主要分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線。濕法清洗是針對不同的工藝需求,采用特定的化學藥液和去離子水,對晶圓表面進行無損傷清洗,以去除晶圓制造過程中的顆粒、自然氧化層、有機物、金屬污染、犧牲層、拋光殘留物等物質(zhì),太陽能光伏硅片清洗設備企業(yè),可同時采用超聲波、加熱、真空等輔助技術(shù)手段;干法清洗是指不使用化學溶劑的清洗技術(shù),主要包括等離子清洗、超臨界氣相清洗、束流清洗等技術(shù)。
干法清洗主要是采用氣態(tài)的刻蝕不規(guī)則分布的有結(jié)構(gòu)的晶圓二氧化硅層,雖然具有對不同薄膜有高選擇比的優(yōu)點,但可清洗污染物比較單一,太陽能光伏硅片清洗設備哪家好,目前在 28nm 及以下技術(shù)節(jié)點的邏輯產(chǎn)品和存儲產(chǎn)品有應用。晶圓制造產(chǎn)線上通常以濕法清洗為主,少量特定步驟采用濕法和干法清洗相結(jié)合的方式互補所短,江蘇太陽能光伏硅片清洗設備,在短期內(nèi)濕法工藝和干法工藝無相互替代的趨勢,目前濕法清洗是主流的清洗技術(shù)路線,占比達芯片制造清洗步驟數(shù)量的 90%。
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