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鋼研納克江蘇檢測技術研究院有限公司
主營：直讀光譜儀 ICP光譜儀 ICPMS 碳硫分析儀 氧氮分析儀
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固體中氧分析原理
氧在固態(tài)鋼中的溶解度很小，大部分以氧化物形式存在，如 AL2O3、SiO2、MnO、FeO、TiO2、Cr2O3、MgO、ZrO2、CaO、Fe2O3、Fe3O4。這些氧化物夾雜很少以簡單氧化物形式存在，常以各種復雜氧化物形式存在，國產(chǎn)氧氮氫分析儀廠家，如
MnO-SiO2-Al2O3系氧化物，含有鋼玉、石英、錳尖晶石等；FexMn1-xO-SiO2-Al2O3氧化物，含有鐵尖晶石；MgO-SiO2-Al2O3 系氧化物和 CaO-SiO2-Al2O3 系氧化物。這些非金屬夾雜會導致鋼的機械性能（如張力、延展性、硬度和疲勞性）、物理性能（如密度、熱膨脹性和比熱容）、抗腐蝕性(濕度和高溫)和可焊接性顯著下降。氧的檢測通過紅外分析器來完成。紅外分析器由紅外光源發(fā)出穩(wěn)定的光信號，經(jīng)過切光器，調(diào)制為光脈沖（交流光信號），交替通過氣室的不同測量池，被檢測器吸收。當測量池通入零氣時，儀器的輸出信號為零。當測量池中通入被測氣時，測量池中的輻射能量被相應吸收，經(jīng)放大器后便產(chǎn)生一個與被測氣濃度成某種函數(shù)關系的電壓信號，該微量信號經(jīng)放大處理輸出到計算機的數(shù)據(jù)采集板，經(jīng)計算機軟件采集、處理、積分、運算，得到被測樣品所含氧的質量分數(shù)。
氧氮分析儀檢出限
氧含量測定的前提是要求空白低且穩(wěn)定。 氧空白值主要是由石墨坩堝、 助熔劑、 載氣以及爐膛空白等引起的。在4.
5KW 的分析功率下， 使用高純免洗鎳囊進行測定。 實驗結果表明， 氧空白值是 0. 0030% ， 標準偏差為 0. 000 1% 。 以空白標準偏差的 3 倍計算出氧的檢出限為 0. 000 3% ， 以空白標準偏差的 10 倍計算出氧的測定下限為 0. 001% 。
鋼研納克ONH-3000氧氮氫分析儀技術參數(shù)
1. 分析范圍（1.0g樣品）
氧： 低氧：0.1～300ppm* 高氧：0.03％ ～2%*
氮： 低氮：0.1～300ppm* 高氮：0.03％ ～2%*
氫： 低氫：0.1～50ppm* 高氫：50～1000ppm*
注：*改變稱樣量可改變測量范圍
2. 分析精度
氧、氮：1ppm或1%
*
氫： 0.2ppm或2% *
注：* 以不大于試樣標準偏差或不確定度為準。
3. 靈敏度： 0.01ppm
4. 分析時間： 一般為3分鐘
5. 樣品稱重： 一般為1g，可根據(jù)樣品含量改變稱樣量。
6. 脈沖爐： 電流0～1500A，功率：7.5KVA， 較高溫度高于3000℃。
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第6年
