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主營：電鍍設(shè)備,清洗設(shè)備,水處理設(shè)備,廢氣處理設(shè)備,自動化設(shè)備
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| 先生： |
泛半導體工藝伴隨許多種特殊制程，會使用到大量超高純（ppt 級別）的干濕化學品，這是完成工藝成果的重要介質(zhì)，其特點是昂貴并伴隨排放。在集成電路領(lǐng)域，甘肅太陽能光伏硅片清洗設(shè)備，高純工藝系統(tǒng)主要包括高純特氣系統(tǒng)、大宗氣體系統(tǒng)、高純化學品系統(tǒng)、研磨液供應及回收系統(tǒng)、前驅(qū)體工藝介質(zhì)系統(tǒng)等。其中，各類高純氣體系統(tǒng)主要服務于幾大干法工藝設(shè)備，太陽能光伏硅片清洗設(shè)備企業(yè)，各類高純化學品主要服務于濕法工藝設(shè)備。
根據(jù)清洗介質(zhì)的不同，目前半導體清洗技術(shù)主要分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線。濕法清洗是針對不同的工藝需求，采用特定的化學藥液和去離子水，對晶圓表面進行無損傷清洗，以去除晶圓制造過程中的顆粒、自然氧化層、有機物、金屬污染、犧牲層、拋光殘留物等物質(zhì)，可同時采用超聲波、加熱、真空等輔助技術(shù)手段；干法清洗是指不使用化學溶劑的清洗技術(shù)，主要包括等離子清洗、超臨界氣相清洗、束流清洗等技術(shù)。
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第4年
