等離子拋光技術(shù)可以通過控制處理參數(shù),實(shí)現(xiàn)對(duì)表面處理效果的控制和可重復(fù)性。它可以保證每個(gè)工件的表面處理效果基本一致,減少了生產(chǎn)過程中的變異性和浪費(fèi),提高了產(chǎn)品的一致性和品質(zhì)。等離子拋光技術(shù)采用的是無污染的等離子體進(jìn)行表面處理,避免了傳統(tǒng)的化學(xué)處理過程中的和毒性危害。同時(shí),等離子技術(shù)還可以運(yùn)用在真空或者惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行處理,避免了氧化和腐蝕的風(fēng)險(xiǎn),保障了生產(chǎn)環(huán)境和工作人員的安全。
等離子拋光的原理在高溫超高電流的作用下,電解質(zhì)水產(chǎn)生電離子,分離化學(xué)液態(tài)電漿,利用電解質(zhì)水溶和高溫、高壓的配合產(chǎn)生等離子,等離子與工件的表面摩擦而產(chǎn)生拋光的效果。等離子拋光的過程中涉及到化學(xué)變化,其材料去除機(jī)理主要表現(xiàn)在材料的化學(xué)去除過程,其原理為反應(yīng)等離子在放電過程中產(chǎn)生許多離子和化學(xué)活物質(zhì),這些中性物質(zhì)稱其為自由基,與原來的氣體分子相比,這些自由基是活躍的刻溶劑。等離子體的材料去除機(jī)理不僅僅包括化學(xué)反應(yīng)的去除原理,還包含物理方法的去除原理,但主要的還是氣相化學(xué)反應(yīng)去除原理。
等離子拋光是靠離子轟擊來工作的、等離子拋光是要靠時(shí)間累積實(shí)現(xiàn)的,時(shí)間越久拋光越平整、但成本也會(huì)上升、控制成本也就要控制時(shí)間,要找到一個(gè)合適點(diǎn)、既能達(dá)到品質(zhì)又能節(jié)約時(shí)間的那個(gè)點(diǎn),等離子拋光不能取得傳統(tǒng)拋光的開粗,因?yàn)檫@道工序材料去除量很大,交給等離子拋光來完成需要很長時(shí)間成本不劃算,等離子拋光可以取代傳統(tǒng)拋光行業(yè)的半精拋和精拋工序、這些工序在傳統(tǒng)拋光行業(yè)里面技術(shù)要求高的用等離子拋光來實(shí)現(xiàn)就很簡(jiǎn)單。
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