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一種半導體氧化設備，其配有:由室壁界定的可密封氧化室;設置于氧化室內(nèi)，并用來支撐半導體樣品的基座;用于向所述氧化室供應對所述
半導體樣品的特定部分進行氧化的水蒸汽的供應部分;監(jiān)測窗，其設置于所述氧化室的室壁之一內(nèi)，并且設置于能夠面對支撐于所述基座上的所述半導體樣品的位置處;監(jiān)測部分，其設置于所述氧化室之外，并且能夠經(jīng)由所述監(jiān)測窗面對支撐于所述基座上的半導體樣品;以及調(diào)整所述基座和所述監(jiān)測部分之間的距離的調(diào)整部分。
半導體設備泛指用于生產(chǎn)各類半導體產(chǎn)品所需的生產(chǎn)設備，屬于半導體行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵支撐環(huán)節(jié)。半導體設備是半導體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)先導者，太陽能光伏硅片清洗設備選擇，芯片設計、晶圓制造和封裝測試等需在設備技術(shù)允許的范圍內(nèi)設計和制造，宿州太陽能光伏硅片清洗設備，設備的技術(shù)進步又反過來推動半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。半導體氧化設備以及一種制造半導體元件的方法，其能夠沿平面方向保持包含在半導體樣品內(nèi)的選擇氧化層的氧化量的均勻性， 并適當?shù)乜刂蒲趸俊?p>
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第4年
