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東莞市大凡光學(xué)科技有限公司
主營：標(biāo)定板,標(biāo)定塊,光刻高精度靶
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五、實例介紹以昊量光電推出的Test Chart標(biāo)準(zhǔn)尺系列為例，該系列靶片采用高精度的電子束光刻技術(shù)制作，圖案蝕刻在具有廣譜透射性的石英襯底上。通過燒蝕鉻層的方式形成精細(xì)的圖案結(jié)構(gòu)，分辨率可達(dá)到3300 lp/mm。這些靶片提供了多種圖案選擇，如線條、星狀、方格等，桃園光掩膜版，并可用于配各類顯微鏡物鏡使用。六、總結(jié)光刻高精度靶作為微電子技術(shù)中不可或缺的校準(zhǔn)和測試工具，在提升光刻系統(tǒng)分辨率性能方面發(fā)揮著重要作用。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，對光刻高精度靶的精度和穩(wěn)定性要求也越來越高。未來，隨著新材料和新技術(shù)的不斷涌現(xiàn)，光刻高精度靶的制作工藝和應(yīng)用領(lǐng)域也將不斷拓展和完善。
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第1年
