薄片類石墨電極形狀的放電較之于其他普通形狀的放電難度相對(duì)較高,主要原因有以下幾個(gè)方面:
1、排屑條件較差。對(duì)于薄片石墨電極來(lái)說(shuō),放電深度和電極本身的厚度有一定關(guān)系,一般在電極厚度的20倍左右放電的狀態(tài)會(huì)比較理想,放電速度也比較快,超過(guò)此范圍,排屑會(huì)越來(lái)越困難,放電效率會(huì)隨之下降,另外,由于放電通道中排屑物的增多,兩次放電現(xiàn)象的幾率也隨之增加,造成這部位的放電間隙增大甚至超差,導(dǎo)致后續(xù)精加工電極修正不到位。
2、深度和寬度比值大的薄片電極,在兩邊放電間隙不均勻的情況下,石墨片工廠,間隙小的一側(cè)由于受放電作用力的影響,迫使電極向間隙比較大的一側(cè)彎曲,越接近深處,這種現(xiàn)象越嚴(yán)重,這也是造成底部側(cè)面不易修光的原因之一。這種現(xiàn)象一般在電極作搖動(dòng)加工動(dòng)作時(shí)比較明顯。
綜合以上原因,提出改善措施有:
1、加大設(shè)備的Z軸伺服速度,石墨片供應(yīng),對(duì)于薄片類電極且深度比較大的場(chǎng)合,條件允許的話,盡可能設(shè)在高擋,以加強(qiáng)電極對(duì)形腔的泵吸作用,增強(qiáng)排屑效果,
2、如對(duì)加工質(zhì)量有較高要求的話,建議不要采用大電流高速加工方法。這種方式雖然加工但同時(shí)單位時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生的加工屑也較多,在排屑不暢的情況下容易形成兩次放電現(xiàn)象從而影響側(cè)面精度及粗糙度指標(biāo)。
3、支電極(粗工)電極的減寸量盡可能大一些,這樣,由于兩次放電所造成的誤差可能還在尺寸允許的范圍內(nèi),通過(guò)精加工放電的修整達(dá)到彌補(bǔ)缺陷的目的。
4、精加工的電極減寸量不要太大,雖然放電時(shí)間可能長(zhǎng)一些,但放電面的粗糙度比較均勻,這是因?yàn)閾u動(dòng)量比較小,石墨片,放電間隙比較均勻,受火花爆力而發(fā)生電極彎曲的可能性比較小。
5、小電流加工可能會(huì)加劇電極的損耗,為了保證加工精度,應(yīng)多備一支精加工電極。
6、高度比較大且厚度比較薄的石墨電極形狀,加工完后有可能會(huì)產(chǎn)生彎曲變形,石墨片加工定制,不注意的話對(duì)放電會(huì)產(chǎn)生影響。因此,電極制作完成后應(yīng)進(jìn)行形狀尺寸檢測(cè),確保沒(méi)有變形現(xiàn)象。另外,電極根部處理為圓弧相切能有效預(yù)防變形。
7、設(shè)備對(duì)加工效果的影響;對(duì)于那種放電面積不大且放電深度比較大的場(chǎng)合,一般來(lái)說(shuō),小型機(jī)床的加工效果比中、大型機(jī)床效果好。小型機(jī)床Z軸負(fù)重較小,因此伺服速度高一些,有利于排屑。
由于石墨電極放電加工中不確定因素非常多,各種類型或形狀的電極,即使有效放電面積相同,可能也不能用同一種加工參數(shù)來(lái)加工,需要在實(shí)踐中修正,聚鑫隆石墨制品廠家也正在做進(jìn)一步深入的實(shí)驗(yàn),爭(zhēng)取得出較好的加工參數(shù)。
DOBON納米復(fù)合石墨膜
優(yōu)點(diǎn):以可膨脹石墨為原料,經(jīng)過(guò)高溫膨脹和超聲波震蕩處理得到了納米石墨,并進(jìn)一步分別對(duì)納米石墨進(jìn)行氧化和還原處理得到再氧化石墨和還原石墨。分別對(duì)聚乙烯醇、聚乙烯和纖維素等高分子基體材料進(jìn)行適當(dāng)?shù)馗男?,以改善與納米石墨導(dǎo)熱填料的界面相容性。通過(guò)與納米石墨、再氧化石墨以及還原石墨等導(dǎo)電填料復(fù)合制備出納米復(fù)合石墨膜;厚度是40nm~70nm,導(dǎo)熱系數(shù)是1800~2500w/m-k。
缺點(diǎn):只適合應(yīng)用少數(shù)產(chǎn)品應(yīng)用,工藝較為復(fù)雜,成本較高。
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