由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發(fā)內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題,國產ICP光譜儀價格,接近于商品水平的產品樣機將于年內完成;ICP質譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調試,采集到正確的譜圖,這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關鍵、難點技術已經實現原理。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發(fā)任務奠定了堅實的基礎。
鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。
1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線密度平面全息光柵,Czerny-Turner結構光學系統(tǒng),通光量大,分辨率高。
2 雙光柵設計,整個波長分布范圍內均具有極高光譜分辨率,國產ICP光譜儀設計。
3 有效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧,匹配速度快,確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
4 雙通道高靈敏PMT檢測器,寬動態(tài)范圍信號處理技術,具有優(yōu)異的檢測能力。紫外光譜范圍內自動切換使用紫外PMT。
5 功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
ICP光譜儀
目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型,其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術水平,它們以光電倍增管為檢測器,技術上非常成熟,但也較落后,其中多道型已幾乎退出歷史舞臺,單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術水準,它以CID或CCD(SCD)半導體器件為檢測器;中階梯光柵結合棱鏡(或平面光柵)構成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng),能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經近十年的不斷完善和發(fā)展,目前已成為ICP光譜儀的主流。
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