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單層膜厚度
在單層反射鍍膜中，膜厚度的精度是關(guān)鍵因素。膜層的厚度通常在0.1 ~ 2微米之間，具體厚度取決于光學(xué)元件的應(yīng)用。如果滿足需要的反射或透射波長(zhǎng)，則反射和透射率將化。
蒸發(fā)源選擇：選擇適合鍍膜的蒸發(fā)源材料。通常使用金屬或氧化物，例如鋁、銀、二氧化硅等。選擇材料的種類和厚度取決于所需的光學(xué)性能。蒸發(fā)：在真空環(huán)境中，將蒸發(fā)源加熱到足夠高的溫度，使得蒸發(fā)源材料蒸發(fā)成氣態(tài)。蒸發(fā)的材料會(huì)沉積在器件表面上形成薄膜
溫馨提示：以上是關(guān)于光學(xué)真空鍍膜工藝-光學(xué)真空鍍膜-東莞仁睿電子(查看)的詳細(xì)介紹，產(chǎn)品由東莞市仁睿電子科技有限公司為您提供，如果您對(duì)東莞市仁睿電子科技有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應(yīng)商或者讓供應(yīng)商主動(dòng)聯(lián)系您 ，您也可以查看更多與其它相關(guān)的產(chǎn)品！
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第8年
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