王水在溶解了 的溶液中有大量的殘余和 硝基物的存在給后續(xù)提煉或精煉帶來操作困難或失敗,嚴重影響的提煉或精煉工藝順利進行,嚴重影響回收率,故王水溶液的濃縮趕硝是緊隨溶解其后的務必工序!尤其在鉑族金屬的精煉中嚴重影響水解的順利進行和回收率。
王水溶液的濃縮趕硝故名思議是兩段工序,濃縮的目的是將溶液中可在沸騰下揮發(fā)的酸和水盡量揮發(fā),以便適合趕硝的藥劑和濃度盡量高的無水硝基物或殘余快速反應,以達到趕硝的目的。
背靶材料:
無氧銅(OFC)– 目前常使用的作背靶的材料是無氧銅,因為無氧銅具有良好的導電性和導熱性,純銀靶材,而且比較容易機械加工。 如果保養(yǎng)適當,無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。
鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下,如需要進行高溫帖合的條件下,無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲,純銀靶材技術, 所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數無法與無氧銅匹配,同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,純銀靶材誰家好,用于高能激光中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
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