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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，純鉑靶材報價，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），純鉑靶材工藝，即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
采用連續(xù)式硫化法的情況下，純鉑靶材加工，不會有因切去加壓成形產(chǎn)生的毛邊或一般的擠壓處理和在硫化處理槽內(nèi)進(jìn)行處理時橡膠管兩端翹起的部分而導(dǎo)致的橡膠浪費(fèi)，另外能夠縮短制造時間和減少人工費(fèi)用，因此能夠降低輥筒的制造成本，從這些方面考慮，此方法優(yōu)于間歇式硫化法。
此外，硫化處理后，江蘇純鉑靶材，由于對每個輥筒都進(jìn)行了剪切，所以基本上不會出現(xiàn)上述差別，這樣就可緩解長度方向的電阻值的不均勻。
金屬靶材材質(zhì)分為：
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
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第8年
