鋼研納克PlasmaMS 300 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 ICP-MS擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)
軟件著作權(quán)
1.《Imass質(zhì)譜軟件》V1.0.0,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,2015R11S240625
文章
1.《一種四級(jí)桿質(zhì)譜儀真空測(cè)量系統(tǒng)及控制系統(tǒng)的研制》2017.2,期刊
2.《HPLC-ICP-MS 測(cè)定六種中藥中五種形態(tài)》,2016.10.北京光譜年會(huì)
3.《電感耦合等離子體質(zhì)譜法測(cè)定鎳鎢合金中》2015.3.6,期刊
4.《不銹鋼薄板橫截面的激光剝蝕-電感耦合等離子體質(zhì)譜原位統(tǒng)計(jì)分布分析》2013.10
5.《電感耦合等離子體四級(jí)桿質(zhì)譜碰撞反應(yīng)池技術(shù)現(xiàn)狀與發(fā)展》,2013.3,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家,期刊
6.《電感耦合等離子體四極桿質(zhì)譜離子光學(xué)系統(tǒng)的現(xiàn)狀和進(jìn)展》2013.3,期刊
7.《激光剝蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜新進(jìn)展》, 2012.3,期刊
8.《電感耦合等離子體法測(cè)量錳鋅》;2014,冶金分析
4.如何進(jìn)行樣品前處理,以使ICP-MS質(zhì)譜儀能夠準(zhǔn)確地分析樣品?為了使 ICP-MS 質(zhì)譜儀能夠準(zhǔn)確地分析樣品,需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚恚枰M(jìn)行適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚?,以將待測(cè)元素從基體中電離出來,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家,并將其轉(zhuǎn)化為易于電離的形式。常用的前處理方微波括濕法消解、干法灰化、微波消解等。
濕法消解是將樣品與酸或堿等試劑混合,在高溫下進(jìn)行消解,以將待測(cè)元素從基體中分離出來。干法灰化是將樣品在高溫下進(jìn)行灰化,以將待測(cè)元素從基體中分離出來。微波消解是將樣品在微波爐中進(jìn)行消解,以將待測(cè)元素從基體中分離出來。
在進(jìn)行樣品前處理時(shí),需要注意以下幾點(diǎn):
選擇適當(dāng)?shù)那疤幚矸椒ǎ焊鶕?jù)樣品的性質(zhì)和待測(cè)元素的性質(zhì),選擇適當(dāng)?shù)那疤幚矸椒ā?/p>
控制樣品的量和濃度:樣品的量和濃度會(huì)影響 ICP-MS 質(zhì)譜儀的分析結(jié)果,因此需要控制樣品的量和濃度,以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。
避免污染:在進(jìn)行樣品前處理時(shí),需要避免污染,以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。
控制消解溫度和時(shí)間:消解溫度和時(shí)間會(huì)影響 ICP-MS 質(zhì)譜儀的分析結(jié)果,因此需要控制消解溫度和時(shí)間,以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。
進(jìn)行空白對(duì)照實(shí)驗(yàn):在進(jìn)行樣品前處理時(shí),需要進(jìn)行空白對(duì)照實(shí)驗(yàn),以保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。
總之,為了使 ICP-MS 質(zhì)譜儀能夠準(zhǔn)確地分析樣品,需要進(jìn)行適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚?,以將待測(cè)元素從基體中分離出來,并將其轉(zhuǎn)化為易于電離的形式。在進(jìn)行樣品前處理時(shí),需要注意選擇適當(dāng)?shù)那疤幚矸椒?、控制樣品的量和濃度、避免污染、控制消解溫度和時(shí)間、進(jìn)行空白對(duì)照實(shí)驗(yàn)等。
ICP-MS裝機(jī)量已在8000臺(tái)以上,僅中國(guó)目前每年的新增裝機(jī)數(shù)就超過500臺(tái)。近三年來,國(guó)際上ICP?MS 的主要生產(chǎn)商推出了若干型號(hào)的四極桿式ICP-MS,如Agilent在2012年推出的8800型號(hào)、2014年推出的 7900型號(hào),PerkinElmer于2014年推出的Nexion350系列型號(hào)、ThermoFisher于2012年推出的iCap-Q系列型號(hào), 2014年德國(guó)耶拿完成對(duì)布魯克ICP-MS生產(chǎn)線的收購,并于今年2月推出的PlasmaQuant系列型號(hào),而我國(guó)鋼研納克推出了國(guó)產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS
300 。
四極桿ICP-MS的基本結(jié)構(gòu)由進(jìn)樣系統(tǒng)、離子源、錐及離子透鏡、四極桿分析器、真空系統(tǒng)和檢測(cè)器等硬件部
分組成(部分型號(hào)還包括用以消除干擾的反應(yīng)池部分),此外還包括用于冷卻系統(tǒng)、氣體管路、儀器控制和數(shù)據(jù) 分析系統(tǒng)等支撐輔助部分。下面我們按照ICP-MS的每一個(gè)結(jié)構(gòu)部分,看近年來的技術(shù)進(jìn)展。
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